Sentetik Pırlanta – CVD
Elmasın daha az masraflı bir şekilde üretim sistemi 1952’de Union Karbit Corporation üyelerinden biri W.G. Eversole tarafından geliştirilmiştir. Bu metotla elmas, Kimyasal Buhar Kaplama (CVD = Chemical Vapour Disposition) yöntemiyle gaz kütlesinden üretilmektedir.
Elmas substrat örneğin metan gazı (Kimyasal formülü= CH,)gibi bir hidrokarbon gazına maruz bırakılır.
Bu işlem sonucunda grafit yüklü karbon ve elmas bu substrat içerisinde depolanır. Bunun ardından grafit sicak hidrojen gazının nüfuz etmesi ile birlikte sistemden giderilir.
Bu prosedür sonucunda çok yavaş büyüyen bir elmas film üretimi mümkün olmaktadır. Bu prosesin defalarca gerçekleştirilmesi sonucunda daha kalın bir elmas film üretilir.
1970’lerin ortalarında Japon İnorganik Maddeler Araştıma Enstitüsünden (NRIM) araştırmacılar büyük bir ilerleme kat ederek CVD elmas filmlerin hızlı ve ekonomik olarak üretilmesinin uygun bir yolunu bulmuştur.
PIRLANTA AKADEMİ BLOG